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フォトレジストおよびフォトレジスト付属品の分野で、日本メーカーはどの程度の存在感を持っているのでしょうか。本記事ではフォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場に参入している企業のうち、国内勢の位置づけを中心に整理します。
フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場の参入企業
- JSR Corporation
- Shin-Etsu Chemical
- Avantor Performance Materials
- The Dow Chemical Company
- DuPont
- Tokyo Ohka Kogyo
- LG Chem
- FUJIFILM Electronic Materials
- Merck KGaA
- Sumitomo Chemical
日本メーカーの位置づけ
このリストの中で日本企業はJSR株式会社、信越化学工業、東京応化工業、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ、住友化学の5社です。JSRはArF液浸用やEUV用の先端レジストで世界をリードし、信越化学工業はレジスト用ポリマーやシリコン系材料、EUV関連材料に強みを持ちます。東京応化工業は半導体レジストの総合メーカーとしてKrF、ArF、EUVレジストを幅広く供給し、現像液や剥離液などの周辺材料も手掛けます。富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズは高解像度レジストや感光性材料、CMPスラリーなどで知られ、住友化学はArFレジストやEUV用材料、高純度薬液を展開しています。これら日本企業は先端微細化に対応する材料開発と安定供給で世界の半導体工場を支えています。
海外勢との比較
海外サプライヤーであるJSRコーポレーション、信越化学、東京応化工業、住友化学、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ、メルクKGaA、LGケムは、先端リソグラフィー向けの高純度フォトレジストや周辺材料において技術力を蓄積し、微細化対応や品質安定性で優位に立ち、価格は高めだがグローバルな技術サポートや安定供給体制を提供する。一方、国内サプライヤーのダウ・ケミカル、デュポン、アバンター・パフォーマンス・マテリアルズも周辺材料や高純度薬品で品質とサービスを競うが、最先端レジストでは海外勢への依存が続く。国内品は汎用品で価格競争力を持つ場合があるものの、技術面と品質面では海外大手が総合的にリードし、顧客密着型のサービスで差別化を図る構図が続いている。
国内需要の動向
日本におけるフォトレジストおよびフォトレジスト周辺材料の需要は、半導体・集積回路の微細化と先端ロジック・メモリ向けの極端紫外線露光技術の導入拡大によって強く牽引されている。さらに、自動車の電動化や先進運転支援システムの普及に伴い、パワー半導体や車載センサー、MEMSデバイス向けの需要も伸びている。加えて、 fifth generation mobile communication system やデータセンター向けの高速通信機器、プリント回路板の高密度化も市場を押し上げている。主な購入者層は、大手半導体メーカー、電子部品メーカー、プリント回路板製造業者、そしてMEMSやセンサーを手掛ける精密機器メーカーである。
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